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“阿特拉斯·科普柯奖”授予用于半导体生产的创新干式真空泵

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“John Munck技术创新奖” 今年颁发给了在阿特拉斯·科普柯真空技术业务领域半导体业务部工作的Paul Neller、Andy Mann、Phil North、Dave Manson、Brian Murphy、Allen Park以及Jonathan Youn。他们因为研发出了iXM干式真空泵而获得该奖。这个真空泵被用于半导体制造,还提高了产品的使用寿命及可靠性,并且与其他竞品相比,它更小、更静、更节能。 
“这个团队开发出了这种拥有高技术水平的创新产品,能够帮助到我们的客户。他们做出如此的承诺,我非常高兴能将这个奖项颁发给他们,”阿特拉斯·科普柯总裁兼首席执行官Mats Rahmström表示。 

这个真空泵是在韩国研发的,世界上大部分的半导体都是在那里制造的。 
“John Munck奖”成立于1991年,每年颁发给在提升阿特拉斯·科普柯产品整体质量上,做出杰出贡献的产品研发人员、设计师或者团队。 
该奖项将于2018年4月24日在年度股东大会上颁发给获奖者。